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fio2吸氧浓度计算公式中的4是什么意思,氧合指数的计算公式 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息,国(guó)家知(zhī)识产权局局长(zhǎng)申长雨在新闻发布会(huì)上表示,将统筹(chóu)推进(jìn)各类知识(shí)产权法律法规(guī)和制(zhì)度规则(zé)的制修(xiū)订工(gōng)作(zuò)。fio2吸氧浓度计算公式中的4是什么意思,氧合指数的计算公式其中,修改完善集成电路布图设计保护条(tiáo)例,适应大规模集成电(diàn)路(lù)发(fā)展需要,助力(lì)芯片(piàn)产(chǎn)业做(zuò)大做强,服务(wù)数字经济更好(hǎo)发展。

  加强大数据、人工智(zhì)能、基因(yīn)技术等新(xīn)领域新业态知识产权规则研(yán)究,助力(lì)相关领域创新发展。同时,积极(jí)参与(yǔ)知识(shí)产(chǎn)权国际规则制定,更好对接高标准国际经贸规(guī)则(zé),助力(lì)高水平对(duì)外(wài)开(kāi)放。

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