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杨亿巧对中杨大年对的对子好在哪里,杨亿巧对中会杨大年适来白事是什么意思 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月(yuè)24日消息,国(guó杨亿巧对中杨大年对的对子好在哪里,杨亿巧对中会杨大年适来白事是什么意思)家知(zhī)识(shí)产权局局(jú)长申长雨在新闻发(fā)布会上(shàng)表示,将统(tǒng)筹推进(jìn)各类知识产权法律(lǜ)法规和制度规则的制修订工作。其中,修改完善(shàn)集(jí)成电路布(bù)图设(shè)计保护(hù)条例,适应大规模集成电路发展需要(yào),助力芯片产业(yè)做大做强,服务(wù)数字经济更(gèng)好发(fā)展。

  加强大数据、人工(gōng)智能、基(jī)因技术等新领域新(xīn)业(yè)态知识产权(quán)规则研究,助力(lì)相关领域创新发(fā)展。同时,积极参与知识产权(quán)国际规则(zé)制定,更好对接高标(biāo)准国际经(jīng)贸规(guī)则(zé),助(zhù)力高水平对外(wài)开放。

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